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第四百二十九章:预热

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    没有管台下反应,这次来ISSCC大会,还在美国佬的地盘砸场子,直接摆明车马要怼美国半导体行业巨人英特尔公司,质疑人家行业顶级大佬所留下的金科玉律,而且还是经受住了时间考验的那种。

    嗯.....

    这美国人要是还能稳住,那绝对不可能,所以倪光南总工也早有准备,直接不理会其它,继续埋头演讲,不给其他人说话的机会,有啥事儿,你们都给我憋着。

    要说这种情况吧,倒是跟几十年后大学老师在台上讲课,然后台下众多学生各种千奇百怪姿势很一样,但老师却内心毫无波动,甚至还能倒背圆周率,更兼计划回头应该给那些学生挂科。

    继续不急不缓地演讲,整个过程给人感觉是情感上毫无波澜,绝对是那种没看过《演讲与口才》的业余讲师。

    “当价格不变时,在单位面积的集成电路上可容纳元器件数目,每隔18-24个月便会增加一倍,这是英特尔公司的戈登摩尔博士所提出,并且根据前二十年的半导体集成电路行业发展情况看,似乎也完美印证此处,甚至我们再往后三十年,也同样还能继续维持下去。”

    先来个小小地吹捧,类似欲扬先抑的反套路使用,不过这种效果却往往都能起到不错的作用,所以不该少的是一样都不能少。

    “现在主流的半导体工艺已经过度到0.5微米,各大公司都在攻克0.35微米工艺技术。那我说一个问题,半导体工艺技术是否能够持续保证每两年更新换代一次,这个问题可能有人说可以随着时间的发展而解决,但在我看来,就目前传统光刻机技术路线而言,十年之内想要突破0.1微米是很困难。”

    十年之内,也就是在2000年左右让光刻机突破0.1微米,以欧美这些科研人员来做,好像全都是走干式光刻机台路子,这难度还真不是一般的大。

    真正让光刻机突破微米为单位的时代,实际还是位华裔人士:林本坚。

    这位大佬在IBM工作的1970到1992年之间,那是带领团队先后完成1微米、0.75微米、 0.5微米光刻工艺发展攻关,每一步跃进在当时都是引领产业界最前沿,属于当时最顶级的工艺技术。

    而产业界一直要使用好几十年的“深紫外线光源”技术,则是这位大佬在1975年所做出,在当时是光刻技术最短波长的光线。

    能够带领IBM公司的光刻工艺制程团队攻坚的人物,全球范围之内,敢说专精于此项技术的绝不超过十人,林本坚则是在这排名当中很靠前的神级人物。

    在上位面,也是在1992年,这位选择加入台积电,用他当时所掌握的世界最前沿工艺制程技术带着台电一路发展壮大,并依靠独门绝学“侵润式光刻技术”带领台电实现三级跳,在2000年之后,最终成为世界最顶级的半导体集成电路代工厂。

    那么现在这位面就不一样了,诸如台电这种单位,它比起更加金光闪闪的开阳半导体来说,简直就是弱鸡好不好。

    还更不用说IBM公司本就和开阳半导体算是一条战壕里面,关于开阳半导体公司的大致情况,林本坚所知还真不要太少,在听说开阳方面卡在了0.5微米工艺时候,便主动提出可以提供技术方面的咨询。

    如此直白地表达,开阳那边要是还感觉不出来,虞有澄这CEO也差不多可以直接下课算了。

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